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最新研究:自閉癥譜系障礙可能與小腦形狀差異有關(guān)

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最新研究:自閉癥譜系障礙可能與小腦形狀差異有關(guān)

美國(guó)哥倫比亞大學(xué)一項(xiàng)最新研究表明,自閉癥譜系障礙可能與小腦的形狀差異有關(guān)。這項(xiàng)研究被發(fā)表在《科學(xué)公共圖書(shū)館·綜合》雜志上,腦成像分析顯示,自閉癥兒童的小腦表面結(jié)構(gòu)比普通孩子更平坦。

小腦包含了人腦中80%的神經(jīng)元,而它的體積僅占人腦總量的10%。過(guò)去人們普遍認(rèn)為,小腦的作用是控制人體的運(yùn)動(dòng)功能,但最新研究表明,小腦在隱性學(xué)習(xí)能力(在沒(méi)有明確指令下提取基本規(guī)則的能力)、感覺(jué)和認(rèn)知功能方面也具有重要作用。

在與自閉癥譜系障礙相關(guān)的腦成像研究中,對(duì)小腦區(qū)域的關(guān)注較少,主要原因在于小腦的形狀不規(guī)則,人們很難用傳統(tǒng)的成像技術(shù)進(jìn)行分析。而大腦雖然神經(jīng)元較少,但體積比小腦大,更便于成像研究,因而成為自閉癥相關(guān)腦成像研究的重點(diǎn)。

此次,美國(guó)哥倫比亞大學(xué)歐文醫(yī)學(xué)中心研究人員首次將研究聚焦于小腦。他們選取了20名6-12歲的自閉癥男孩,18名年齡相仿、語(yǔ)言能力相近、小腦體積相似的正常男孩做對(duì)照,分別對(duì)他們的小腦磁共振成像數(shù)據(jù)進(jìn)行高分辨率3D分形分析,并對(duì)目標(biāo)小腦外層的分形維數(shù)進(jìn)行了測(cè)算。

結(jié)果顯示,自閉癥男孩的右側(cè)小腦皮層的分形維數(shù)明顯低于正常男孩,說(shuō)明他們的小腦表面結(jié)構(gòu)比較平。由于右側(cè)小腦與語(yǔ)言處理能力有關(guān),研究人員推論,小腦表面平坦可能是造成自閉癥患者溝通障礙的原因之一。

此外,研究人員還發(fā)現(xiàn),小腦皮層分形維數(shù)與孩子的語(yǔ)言和認(rèn)知能力的差異有關(guān),而這些能力也會(huì)受自閉癥影響。社交能力相對(duì)較強(qiáng)的自閉癥男孩,小腦結(jié)構(gòu)更加正常;而那些非語(yǔ)言能力比語(yǔ)言能力強(qiáng)的自閉癥男孩,小腦結(jié)構(gòu)也相對(duì)正常。

最新研究表明,自閉癥可能與人體小腦的結(jié)構(gòu)差異有關(guān),但這一推論還有待進(jìn)一步證實(shí)。

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